之前也提到过了,芯片在x nm程度上的芯片工艺,而芯片在生产加工需要用到的就是光刻机,可想而知这是多么精细的作业,那么具体光刻机是什么呢?又是如何工作的呢?今天就来说说光刻机是什么.

　　光刻机是什么?

　　光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等.常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.

　　我们都知道芯片这么小,这么精细,那么是如何生产出来的呢?用刀刻?用水冲?自然不行,因为芯片远比这小得多,动不动就是nm的,这些最小也就是μm级别,那么到底是什么刻刀能做到这么精细.所以就想到了,用光线在芯片上刻,就是光刻机.

　　Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程.形象的来说光刻机就是个"投影仪",把我们想要的图案投影到芯片上.

　 光刻机又是怎么个光刻法呢?

　　老式的胶卷相机应该听过吧,胶片平日里是黑色的,不能见光的,一旦见光就会变白.同理,光刻过程中也是用了一种一见光就会产生反应的特殊胶片.如果要在芯片上刻一个图案的时候,就在芯片上涂上这种特殊胶片,把这个图案形状的光照上去,再经过一些列后续处理,这个芯片上有了这个图案.

　　以上就是光刻机是什么的形象理解了.其实听起来好像不是很难,但是在芯片往越来越小的趋势发展之时,老旧的光刻机已经不能满足要求了,就已经不能做到这么精细的处理了.