在之前我们谈到了光刻机，光刻机技术相关知识的缺乏，是高端国产芯片做不出来的原因之一，还有另一个很大的影响因素就是光刻胶了，那么光刻胶是什么呢？为什么说它这么关键呢？这次就来讲讲光刻胶是什么。

　　光刻胶是什么？

　　光刻胶它是一种材料，又叫抗蚀剂，也叫光阻剂，英文名称为resist。光刻胶是指一大类具有光敏化学作用（或对电子能量敏感）的高分子聚合物材料。在芯片制造工艺有大约四到五成的时间是在光刻过程中，这个过程不仅仅需要光刻机的光刻，光刻胶也起到关键作用，在硅片上涂的一层光刻胶，光刻的精度就取决于光刻胶和光刻机的相互作用。

　　光刻胶大致可以分成PCB用光刻胶、LCD用光刻胶、半导体用光刻胶等，其技术条件等级依次升高。总的来说，PCB光刻胶是目前国产替代进度最快的，LCD光刻胶替代进度相对较快，半导体光刻胶是目前国产技术与国外先进技术差距最大的。

　　光刻胶是十分关键的，就像上面说的那样，但是光刻胶行业被日本、欧美的专业公司垄断，其中，全球市场被日本企业占据八成，可见我国处于一个什么样的境地。光刻胶主要企业包括日本的 TOK、JSR、富士、信越化学和住友化学，美国的陶氏化学、欧洲的 AZEM 和韩国的东进世美肯等，而国内在研制高端光刻胶及配套关键材料产品方面一直处于低迷状态。

　　看到这里，大家应该对光刻胶是什么有个初步的认识了。不过近期据报道，南大光电在193nm光刻胶技术取得突破，毋容置疑，这表示我国在光刻胶技术上获得的一个巨大进步。